芯片内部结构极为复杂,以英伟达B200芯片为例,巴掌大的面积塞入2080亿个晶体管,布局堪称异次元空间级迷宫,设计和制造难度极大。早期集成电路晶体管数量少、结构简单,设计工程师直接在图纸上绘制电路物理版图并送厂生产,采用自底向上(Bottom-Up)设计理念,即先画底层细节再“拼接”成完整电路。
随着集成电路发展为大规模和超大规模,晶体管数量超1万,自底向上方式不再适用,自顶向下(Top-Down)设计理念兴起。该理念先进行系统级设计,再做RTL级设计,最后完善下层细节,具有效率高、设计周期短、成本低、成功率高的优点。
芯片设计工具不断演进,上世纪70年代芯片设计从手工走向计算机辅助设计阶段,出现ICCAD;80年代出现CAE;后来EDA诞生,它是一类软件统称,贯穿芯片研发和生产周期,能提高设计效率、精度和成功率。目前,全球EDA行业第一梯队是Synopsys、Cadence、Siemens EDA三家美国公司,市场占有率超70%,国内EDA企业市场份额较小。
芯片设计存在明确分工,大部分公司只做设计、制造、封测中的一块或更细分领域,国内华为海思、中兴微电子等是Fabless企业。芯片设计难度由种类、功能和性能决定,数字芯片规模大、结构复杂、设计难度和成本高,需专业技术团队、长时间和大额资金投入;模拟/射频芯片和数模混合信号芯片相对简单,中小型团队借助工具也能设计。
芯片设计风险极高,流片失败损失大,不仅会带来直接经济损失,还会拉长研发周期、错失市场机遇,严重时导致公司破产倒闭。不过,芯片设计有“捷径”,即采用IP核,它分为硬核、固核和软核,能大幅减少设计工作量。目前芯片IP核主要市场份额被欧美企业占据,EDA工具和IP核授权环节利润高,但国产化率不足,高端IP核仍依赖进口。2020至2024年间,全球芯片设计市场持续增长,随着数字化转型和AI浪潮发展,芯片产业前景广阔,但也面临巨大挑战。 |